用于10
发明名称 】 用于10-8PA超高真空圆形平面磁控溅射靶的密封装置
【 文 摘 】 本发明公开了一种用于10-8Pa超高真空圆形平面磁控溅射靶的密封装置。它的水冷腔（3）内置有软铁（5）和磁钢（4）、下端面与水冷腔密封法兰（17）上端面间置有O形金属密封圈（7），并经螺丝（22）相固定，进出水管（20，19）分别于软铁（5）和水冷腔密封法兰（17）相焊接，水冷腔密封法兰（17）的下端面与靶支撑座（15）上端面间置有电极绝缘层（13）和两组四只O形密封圈（8，9，10，11），并经靶支撑座（15）中套装的出水管（19）另一端上的紧固螺母（18）相抵压连接，每组O形密封圈间均置有与抽气管（16）相通的通孔（12，14），靶支撑座（15）上焊接有安装法兰（21）。它的真空度高达6×10-8Pa，可实现高质量高纯度金属或非金属薄膜的制备。
【 文 摘 】 本发明公开了一种用于10-8Pa超高真空圆形平面磁控溅射靶的密封装置。它的水冷腔（3）内置有软铁（5）和磁钢（4）、下端面与水冷腔密封法兰（17）上端面间置有O形金属密封圈（7），并经螺丝（22）相固定，进出水管（20，19）分别于软铁（5）和水冷腔密封法兰（17）相焊接，水冷腔密封法兰（17）的下端面与靶支撑座（15）上端面间置有电极绝缘层（13）和两组四只O形密封圈（8，9，10，11），并经靶支撑座（15）中套装的出水管（19）另一端上的紧固螺母（18）相抵压连接，每组O形密封圈间均置有与抽气管（16）相通的通孔（12，14），靶支撑座（15）上焊接有安装法兰（21）。它的真空度高达6×10-8Pa，可实现高质量高纯度金属或非金属薄膜的制备。
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