半导体圆晶片化学气相沉积定位控制传感器

在沉积（CVD）开始前，凯盟SMU-9000测量传感器系统先保证支撑晶片的平面与分散加工气体的喷射头平行。传感器用于保证平面的位置在规定范围内。凯盟系统提供模拟输出（或可选的数字接口），如果平面倾斜，调节器就可将其调平。 <br />特点： <br />通过化学气相沉积（CVD）给硅晶片上一层均匀的薄膜 <br />保证晶片上的化学层均匀沉积 <br />直接测量：安装于浮动平面的传感器环可直接测量喷射头的位置 <br />非接触高分辨率：1纳米 <br />通用：系统有大量传感器选件 <br />欲了解更多关于产品的信息，请访问真尚有公司网站 www.51sensors.com <br />